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ホーム > 著書・論文 > 2020年の著書・論文 > 知的財産実務の最前線(第4回)2019年意匠法改正によるデザイン保護の拡充と実務への示唆

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知的財産実務の最前線(第4回)2019年意匠法改正によるデザイン保護の拡充と実務への示唆

論文

著者等

東崎賢治中所昌司(共著)

書籍名・掲載誌

NBL 2020年9月1日号(No.1177)

出版社

商事法務

備考

「知的財産実務の最前線」連載情報はこちら

業務分野

知財関連取引

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2021年9月

論文

Current State of Intellectual Property Dispute Resolution Systems in Japan

Japan Commercial Arbitration Journal VOL. 2[2021]

2021年8月

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「著作権法の一部を改正する法律」の概要(共著)

NO&T IP Law Update ~知的財産法ニュースレター~ 第3号(2021年8月)

2021年7月

論文

The Legal 500: 5th Edition Intellectual Property Country Comparative Guide - Japan

The Legal 500 ウェブサイト内

2021年5月

ニュースレター

「特許法等の一部を改正する法律案」の概要(共著)

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2021年4月

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標準必須特許を巡るライセンス交渉・紛争に関する近時のデュッセルドルフ地方裁判所の決定とその示唆(下)(共著)

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2021年7月

論文

The Legal 500: 5th Edition Intellectual Property Country Comparative Guide - Japan

The Legal 500 ウェブサイト内

東崎賢治

2021年5月

ニュースレター

「特許法等の一部を改正する法律案」の概要

NO&T IP Law Update ~知的財産法ニュースレター~ 第2号(2021年5月)

東崎賢治中島慧安西信之助犬飼貴之(共著)